7月6日，据《证券时报》报道，针对媒体关于ASML试图绕过荷兰的新销售许可禁令，向中国市场推出特制DUV光刻机的报道，ASML于当天下午进行了回应。公司明确表示，一贯遵守相关法律法规，从未在中国市场推出过专门针对此禁令的光刻机型号。

先前，《DigiTimes》曾披露，ASML正尝试规避荷兰的出口禁令，计划向中国市场提供定制版DUV光刻机。这一举措若得以实施，将使中国半导体企业如中芯国际和华虹等有能力继续利用荷兰技术生产28纳米及更高成熟工艺的芯片。

荷兰近期正式公布了新的出口控制政策，自9月1日起生效，规定企业在出口先进设备前需获取许可。ASML对此表示，根据新的出口管制条例，他们必须向荷兰政府申请出口许可证，方能发送最新的浸润式光刻系统（包括TWINSCANNXT：2000i及其后续的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否发放许可证，并提供许可证的具体条件。

ASML声明强调，荷兰新出口管制政策仅针对TWINSCANNXT：2000i及其后续的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻），而其EUV光刻系统在此之前已受到限制。除上述系统外，目前其他系统的出口并未受到荷兰政府的监管。