近期，台积电（TSMC）的掌门人魏哲家访问了ASML总部，并与激光供应商Trumpf进行了高层会谈。这一系列举动似乎预示着台积电对High-NA EUV光刻技术的态度可能发生了转变，或将加速采用新技术与新设备的步伐。

ASML发言人Monique Mols透露，ASML首席财务官Roger Dassen确认，今年年底前，该公司将向英特尔与台积电提供两台High-NA EUV光刻机。此消息促使ASML股价在市场开盘后显著增长，于美东时间6月5日收盘时涨幅高达9.52%。

值得注意的是，英特尔在High-NA EUV光刻机的采购上展现出高度积极性。早在去年年末，英特尔便成为全球首批接收商用High-NA EUV光刻机的公司之一，并在之后完成了设备的组装。据悉，英特尔已经预订了明年初大部分的High-NA EUV光刻机，其持续接收新设备的行为符合常规操作。然而，台积电的转变则显得较为出人意料。不久前，台积电的高层曾公开表示，考虑到设备成本高昂，短期内不会引进High-NA EUV光刻机。A16制程工艺的发布进一步佐证了这一观点。

ASML的官方声明显示，台积电计划在年内引入High-NA EUV光刻机，引发了业界的广泛关注。目前，台积电尚未对相关情况作出详细回应，仅表示这是与供应商的紧密合作，暂无更多信息可分享。预计三星与SK海力士将在明年获得High-NA EUV光刻机，它们的设备部署计划预计将于2025年下半年实现。

据估计，一台High-NA EUV光刻机的售价约为3.8亿美元，远高于传统的EUV光刻机（约1.83亿美元）。目前，ASML每年能够提供的High-NA EUV光刻机数量大约在5至6台，收到的订单量在10至20台之间。

以上信息源自超能网的报道。